尼康發佈2025財年虧損預警，預計虧損850億日元，創下自1917年創立以來的百年最差業績。
過去半年，尼康光刻機僅出貨9臺，且均為成熟製程的老款設備，在先進製程領域徹底喪失競爭力，市場份額跌至個位數。
而同期荷蘭ASML光刻機出貨327臺，其中高端EUV光刻機48臺，佔據全球高端市場絕對主導地位。
尼康的衰落始於兩次關鍵的拒絕選擇。
2002年，臺積電林本堅提出浸沒式光刻技術構想，可突破當時193nm乾式光刻機瓶頸，卻因尼康的路徑依賴遭全盤否定，尼康彼時已在157nm乾式光刻機投入數億美元，不願放棄既有投入。
該技術後被ASML接手，2004年 ASML與臺積電合作推出首款浸沒式光刻機，迅速佔領市場，尼康後續跟進已錯失先機。
在半導體出口管制背景下，尼康選擇緊跟美國步伐，放棄與中國市場的合作，而中國曾是其最大市場，設備對華銷量佔比一度超40%。
這一選擇導致其設備交付延誤、成本飆升，中國客戶轉向國產替代，尼康進一步喪失市場空間。
此外，尼康還存在多重戰略失誤。
其過度押注英特爾單一客戶，2024年英特爾削減資本開支直接引發尼康訂單暴跌，且未能及時拓展臺積電、三星等核心客戶。
在EUV光刻機研發上，尼康堅持全自研、全日本產路線，投入超千億日元僅造出無法商用的原型機，最終於2018年終止該業務的商業化開發。
2025年9月，尼康關閉運營58年的橫濱工廠，光刻機業務持續收縮。